Rapidusの新しい製造施設の設置

日本の半導体スタートアップRapidusは18日、北海道人の千歳市にある最新の製造施設「IIM-1」（Innovative Integration for Manufacturing-1）の設置を発表しました。この施設では、オランダのASMLが製造したEUV（極端紫外線）露光装置が初めて導入され、半導体製造における新たなステップを踏み出します。EUV露光装置の導入は日本にとっても初めての試みであり、業界に大きな期待を寄せています。

EUV技術の重要性

従来の技術では、2nmプロセスノードまではArFエキシマレーザーが主流でしたが、2nm世代以降の短波長化が必須であり、EUVによる製造が必然となっています。今回導入されるASML製のEUV露光装置は、反射型のフォトマスクやミラーレンズを採用しており、高精度な半導体パターンを実現します。さらに、この装置はTWINSCANというシステムを用いており、生産性の向上が期待されています。

今後の展望

Rapidusは、2025年4月にはIIM-1においてパイロットラインの稼働を開始する予定です。また、同社は新たな半導体製造サービス「RUMS」（Rapid and Unified Manufacturing Service）の構築を進めており、高速かつ効率的な製造プロセスを実現することを目指しています。この新たな取り組みは、日本国内外の半導体産業における競争力強化に貢献することが期待されています。

半導体需要の増加と未来への影響

さらに、半導体需要は急速に成長しており、次世代の自動運転技術や5G通信、AI分野などでの活用が進む中、Rapidusの動きが業界に与える影響は計り知れません。果たして日本の半導体産業はこれを機に復活できるのか、今後の展開に注目です。