Runway, una innovadora startup fundada por dos chilenos, ha cerrado una exitosa ronda de inversión valorada en US$ 3 mil millones. La empresa, que tiene su sede en Nueva York, logró levantar US$ 308 millones en esta ronda, la cual fue liderada por la firma de capital de riesgo General Atlantic. También participaron gigantes como SoftBank y Nvidia, lo que subraya la gran confianza que estos inversores tienen en el potencial de Runway en el mercado tecnológico.

La compañía ha estado revolucionando el campo de la inteligencia artificial y el aprendizaje automático, con un enfoque particular en el procesamiento de imágenes y videos, lo que les ha permitido atraer la atención de grandes inversores.

En un contexto donde las startups chilenas están ganando reconocimiento en el ámbito internacional, Runway se destaca por su enfoque innovador y su capacidad de atraer financiación en un entorno altamente competitivo. Este hito no solo refleja la visión de sus fundadores, sino también el creciente ecosistema de startups en América Latina, donde la tecnología y la innovación están tomando el centro del escenario.

La noticia de esta ronda de financiamiento ha desatado un fuerte interés en el sector tecnológico y podría abrir puertas a más startups chilenas, demostrando que las inversiones extranjeras están comenzando a mirar hacia el sur del continente con un renovado interés. Sin duda, estaremos atentos a los próximos pasos de Runway y su impacto en la industria por venir.